标准摘要 国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测量方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 展开完整摘要 英文名称Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques