标准摘要 国家标准《硅外延层堆垛层错密度测定 干涉相衬显微镜法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 展开完整摘要 英文名称Test method for stacking fault density of epitaxial layers of silicon by interference-contract microscopy