GB/T 14849.4-2014 现行

工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准摘要

国家标准《工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》 由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口,TC243SC1(全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会)执行 ,主管部门为中国有色金属工业协会。
英文名称Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4:Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

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