硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

国家标准《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。