标准摘要 国家标准《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法》 由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 展开完整摘要 英文名称Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy