标准摘要 国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 展开完整摘要 英文名称Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy