标准摘要
国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。
英文名称Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric（ZDD）