半导体晶片近边缘几何形态评价 第2部分：边缘卷曲法（ROA）

国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第2部分：边缘卷曲法（ROA）》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。