标准摘要
国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分:扇形区域平整度法(ESFQR、ESFQD、ESBIR)》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry —Part 3:Sector area flatness(ESFQR,ESFQD,ESBIR)