IEC 62418:2010 现行

半导体器件.金属化应力空隙试验

标准摘要

[中文适用范围]: 本国际标准描述了金属化应力空洞测试的方法和相关标准。它适用于铝(Al)或铜(Cu)金属化。本标准适用于半导体工艺的可靠性调查和鉴定。 [外文原描述]: IEC 62418:2010 describes a method of metallization stress void test and associated criteria. It is applicable to aluminium (Al) or copper (Cu) metallization.
英文名称Semiconductor devices - Metallization stress void test

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