标准摘要
[中文适用范围]： 本文件规定了一种使用中能离子散射 (MEIS) 对硅基底上的非晶重金属氧化物超薄膜进行定量深度分析的方法。 [外文原描述]： This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
英文名称Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering