T/GVS 002—2021 现行

高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

标准摘要

【适用范围】 本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于极限压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备(以下简称“设备”)。 【主要技术内容】 规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于极限压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备(以下简称“设备”)。
英文名称Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant

替代关系

PDF下载提示

暂时无法下载

登录或查看会员