真空表面处理工艺用离子源

【适用范围】 本文件规定了真空表面处理工艺常用离子源的术语和定义、分类、使用条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于在真空环境下用于表面处理工艺的常用离子源（以下简称离子源）。 【主要技术内容】 规定了真空表面处理工艺常用离子源的术语和定义、分类、使用条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于在真空环境下用于表面处理工艺的常用离子源（以下简称离子源）。