标准摘要
国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。
英文名称Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques