GB/T 17866-1999 现行

掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

标准摘要

国家标准《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems

替代关系

PDF下载提示

暂时无法下载

登录或查看会员