GB/T 24578-2009 废止

硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

标准摘要

国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy

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