标准摘要 国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 展开完整摘要 英文名称Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy