标准摘要
国家标准《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。
英文名称Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry