GB/T 24581-2022 现行

硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法

标准摘要

国家标准《硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Test method for Ⅲ and Ⅴ impurities content in single crystal silicon—Low temperature FT-IR analysis method

替代关系

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