GB/T 29056-2025 现行

硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准摘要

国家标准《硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Determination of impurity content in trichlorosilane for silicon epitaxy—Inductively coupled plasma mass spectrometry

替代关系

PDF下载提示

暂时无法下载

登录或查看会员