GB/T 37049-2018 现行

电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准摘要

国家标准《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method

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