标准摘要
国家标准《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
英文名称Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry